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Neuigkeiten


Artikel "Image Simulation and Analysis" in "Optik & Photonik"

Am 12. Juni 2018 erschien ein neuer Artikel von Karsten Sengebusch in der Zeitschrift "Optik & Photonik":

Image Simulation and Analysis

Virtual evaluation of noise and artifacts helps to optimize designs and developments

Abstract

No image is perfect, except for paintings.

We have to deal with various noise sources and image sensor artifacts as well as with diffraction and other geometrical effects. The simulation of such artifacts is a great help during a design process and a perfect method for proof of concepts: Without access to any real hardware it is possible to predict and visualize the performance of opto‚Äźelectronic systems.

Algorithms for correction or analysis of image data can be developed and evaluated a long time before the imaging hardware is ready to use. The statistical methods used during the simulation process can also be used reversely to provide a deep statistical analysis of already existing images. Such an analysis as well as the comparison with simulated images can help to identify the source of artifacts and design mistakes or even be used during forensic work.

Last but not least, the reverse usage of the simulation of diffraction and wave front propagation is a very effective method for the generation of computer generated holograms or DOEs.

Der ganze Artikel ist frei verfügbar unter https://doi.org/10.1002/opph.201800012.

Juni 2018



Neu in unserem Lieferprogramm: Objektive von Kowa

Wir konnten unser Lieferprogramm um die Objektive von Kowa erweitern. Kowa bietet eine große Bandbreite an Objektiven für unterschiedlichste Applikationen. Es stehen unterschiedliche Baureihen für verschiedene Formate und optische Auflösungen zur Verfügung. Besonders interessant für die industrielle Bildverarbeitung sind die Modelle der Baureihen HC-V und JCM-V. Diese besitzen einen Konterring, um die Einstellungen des Objektives zu fixieren.

Juni 2018



Ausbau des Sortimentes der Sockel für Gassensoren

Ab sofort sind auch Sockel für Gassensoren weiterer Hersteller lieferbar.
Mai 2018



Weitere Objektive der 9-Megapixel-Serie von Ricoh (Pentax) verfügbar

Die EURECA nimmt weitere Objektive der 9-Megapixel-Serie von Ricoh (Pentax) in ihr Sortiment auf.
April 2018



Neu im Sortiment der EURECA: Mikroskopie-Objektive von Carl Zeiss

Neu im Sortiment der EURECA sind Mikroskopie-Objektive von Carl Zeiss. Diese Objektive werden oft in Biologie und Medizin bzw. generell im Bereich Lifesciences im Umfeld klassischer Mikroskope genutzt. Das Hauptaugenmerk der EURECA liegt jedoch zusätzlich auf der Integration dieser Produkte in neue innovative Messverfahren zusammen mit unseren hochwertigen Interferenzfiltern und digitalen Kameras.

Abgedeckt werden alle relevanten Techniken wie Hellfeld, Dunkelfeld oder Fluoreszenzverfahren. Unter anderem sind auch Lösungen für Anwendungen mit langem Arbeitsabstand verfügbar.

März 2018



Weitere Interlock-Objektive von Carl Zeiss

Die EURECA erweitert ihr Objektiv-Sortiment der extrem robusten Interlock-Baureihe von Carl Zeiss.

Nun verfügbar sind die neuen Objektivtypen Interlock 1.4/25mm, 1.4/35mm, 2/35mm, 1.4/50mm und 1.4/85mm. Teils sind dies komplette Neuentwicklungen, teils etablierte Konstruktionen, welche sich großer Beliebtheit in industriellen und wissenschaftlichen Anwendungen erfreuen. Die meisten der Objektive verfügen über eine Anfangsöffnung von 1.4, welches zur Erzielung kurzer Integrationszeiten beiträgt.

Alle Interlock-Objektive sind robuste Vollmetallkonstruktionen mit Fixierschrauben für Fokus und Blende, verfügbar sind Versionen mit F-Mount sowie M42 Schraubgewinde. Wie bei allen Zeiss-Objektiven beträgt der Bildkreisdurchmesser 42mm, welches sowohl Anwendungen mit großen Flächensensoren als auch Zeilensensoren erlaubt.

Januar 2018




Seite aktualisiert am: 24.07.2018